Razlagati pomen razvijalca za cigaretne škatle z vžigalicami

Razlagati pomen razvijalca za cigaretne škatle z vžigalicami

1. Koncentracija razvijalca

Koncentracija razvijalca se nanaša na relativno vsebnost razvijalca, in sicer skupno vsebnost NaOH in Na2SiO3. Razvijalec na trgu je večinoma koncentrirana tekočina, uporabo je treba sorazmerno razredčiti, razmerje med koncentracijo in razredčitvijo razvijalca je treba izraziti. Pod predpostavko, da so drugi pogoji konstantni, je hitrost razvijanja sorazmerna s koncentracijo razvijalca, kar pomeni, da večja kot je koncentracija razvijalca, hitrejša je hitrost razvijanja.

Ko je temperatura 22 stopinj in čas razvijanja 60 sekund, je vpliv koncentracije PD razvijalca na zmogljivost različice PS prikazan v tabeli 1 (izpuščeno). Kot je razvidno iz podatkov v tabeli, je najboljša izpostavljenost 1∶6 v primeru 3. stopnje čistoče.

Ko je koncentracija razvijalca previsoka, je hitrost razvijanja pogosto prehitra in postopka razvijanja ni lahko nadzorovati; Zlasti je jedka za grafično osnovo, zlahka povzroči zmanjšanje pik, poškodbe, izgubo svetlobe in majhnih pik ter tanek premaz, kar povzroči upad odpornosti na tiskanje in druge težave; Hkrati bosta oksidna folija in plast za tesnjenje lukenj praznega dela tudi korodirana in poškodovana, postavitev pa bo videti bela, tako da bosta hidrofilnost in odpornost proti obrabi tiskarske plošče slabi. Koncentracija razvijalca je velika, vendar jo je tudi enostavno kristalizirati.

Ko je koncentracija razvijalca nizka, je alkalnost šibka, hitrost razvijanja je počasna in razvijanje ni čisto, postavitev je umazana in temno bela lisa je prilepljena do smrti.

Normalno koncentracijo razvijalca je mogoče preizkusiti s pikčasto lestvico; Pri razvijanju pri običajnih pogojih izpostavljenosti 30 ~ 100 sekund, če je večja izguba majhnih črnih pik, pomeni, da je koncentracija razvijalca prevelika. Če je belih pik več, je koncentracija razvijalca nizka. Zato je najbolje uporabiti razvijalec v koncentracijskem območju, ki ga določi proizvajalec.

2. Razvijanje temperature

Ko je temperatura razvijanja visoka, je molekularno toplotno gibanje v raztopini za razvijanje intenzivno in topnost smole v prevleki je velika. Temperatura je nizka, molekularno toplotno gibanje je oslabljeno in topnost smole je slaba. Zato je pri enakih pogojih izpostavljenosti različen tudi razvojni čas, potreben za različne temperature.

Negativni vpliv nizke temperature razvijanja na kakovost plošče je običajno večji od visoke temperature, zato mora uporabnik pozimi prilagoditi temperaturo razvijalca na določeno območje, da lahko plošča dobi zadovoljive rezultate.

Pod drugimi pogoji je hitrost razvijanja plošče PS sorazmerna s temperaturo razvijanja, to pomeni, da višja kot je temperatura razvijanja, hitrejša je hitrost razvijanja.

3. Čas razvoja

PS različica časa razvijanja je v glavnem določena z vrsto različice PS, časom izpostavljenosti in koncentracijo razvijalca, temperaturo razvijanja in drugimi pogoji. Ko so zgornji pogoji določeni, je stopnja razvoja različice PS sorazmerna s časom razvoja, to je, daljši kot je čas razvoja, bolj temeljit je razvoj. Toda predolg razvojni čas bo povzročil pojav zoženja pik.

4, razvijalec kroženje mešanje

Razvijanje poteka s stikom in raztapljanjem med razvijalcem in fotoobčutljivo plastjo PS različice, zato se uporablja dinamično razvijanje. Če mora ročno razvijanje stresati razvijalno ploščo, mehansko razvijanje z uporabo obtočne črpalke in krtačnega valja za pospešitev pretoka in kroženja razvojne tekočine, tako da je razvojna hitrost in enakomernost razvijanja. Nasprotno, pri metodi statičnega razvoja razvojna tekočina ne more učinkovito teči, hitrost razvoja se bo znatno zmanjšala, enakomernost razvoja pa je slaba.

5. Razpad in dopolnitev utrujenosti razvijalca

Med razvojnim procesom se bo razvijalec postopoma utrudil in upadel z razvojnim procesom in absorpcijo ogljikovega dioksida v zraku ali reakcijo kalcijeve in magnezijeve plazme z vodo, zato se razvojna zmogljivost poslabša in razvojna sposobnost oslabi.

Na splošno lahko pri razvijanju tiskarske plošče opazuje učinek razvijanja s prazno serijo sivega lestvenega ravnila pod enakimi pogoji izpostavljenosti. Če učinek razvijanja ni dober, je treba razvijalec pravočasno zamenjati.

Z nenehnim povečevanjem luknjanja plošče in nenehnim raztapljanjem CO2 v zraku se bo koncentracija OH- v razvijalcu zmanjševala, pH vrednost bo vse nižja in čas razvijanja naj bi se počasi podaljševal, dokler končno ne pride do PS plošče. ne more razviti v normalnih pogojih izpostavljenosti, kar je pojav upadanja utrujenosti razvijalca. Ko pa se pH-vrednost razvijalca zmanjša, se kavstična sila luga na oksidno plast in prevlečno smolo zmanjša, ponovljivost pik in odpornost plošče na tiskanje pa sta boljši kot pri na novo formuliranem razvijalcu. Vendar moramo biti pozorni na dve točki, ena je, da je treba količino plošče nadzorovati v dovoljenem območju razvijalca; Drugič, po uporabi mora biti razvijalec zapečaten z zračno izolacijo, kajti tudi če ne gre za različico razvijalca, ki je izpostavljena zraku, se bo teden dni kasneje razvojna zmogljivost znatno zmanjšala.